研发能力
公司设立有专门的研发实验室，具备完善的抛光质料制备、检测、验证、改性等实验设备。主要有光学 3D 外貌轮廓仪、氮吸附比外貌积仪、马尔文激光粒度仪 2000、马尔文激光粒度仪 3000、旋转粘度计、恒温干燥箱、程序马弗炉、行星式球磨机、平面研磨机等基础设备，同时具备化学剖析中的铁、镨、铈、SO ，REO，F ，Cl 等元素的快速检测能力。
在兰州大学具有科研检测渠道，可借助兰州大学及中科院兰州化学物理研究所进行 X 射线光电子能谱、X 射线衍射、扫描电镜、透射电镜、原子力显微镜外貌剖析、等离子体光电直读光谱仪、原子吸收 光谱仪、核磁共振与能谱仪等大型设备，可以对涉及的各项指标进行检测剖析。
公司拥有经验富厚的专职研发人员 13 人，其中 20 年以上 1 人，10 年以上 3 人，5 年以上 4 人，同时与兰州大学部分教授坚持着良好的相助关系，相助教授 2 人，研究员 1 人，主要针对稀土抛光质料、有机配合物、浆料制备与粉体改性进行相助研发。与江南大学 ASME Journal of Tribology? 等国际期刊审稿人团队相助进行第三代宽禁带半导体抛光质料研发。
抛光与研磨
通过构建稳定的强氧化溶液体系；制备团聚状态、孔隙结构、结晶状态满足要求的磨料颗粒；配制具有高度疏散性、润湿性、流平性、输送性均衡的浆料，制备了一款碳化硅单晶衬底片 CMP 抛光液。
C 向蓝宝石质料
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本产品适用于 C 向蓝宝石质料的快速抛光，能够满足双面、单面工艺的抛光要求，具有良好的通用性。本产品体积比1：13稀释后，单面小时去除率可达14μm，抛光后外貌粗糙度Sa 均小于0.4nm， 循环使用24小时后仍能够坚持每小时7μm以上的去除速率。本产品悬浮性能稳定，久置不板结，流动性好，使用历程易清洗。
滤光片抛光液
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本产品适用于蓝玻璃滤光片的精密抛光，同时可用于磨耗度 200-300高磨耗度软材质的快速抛光。
相比进口产品，抛光速率提升 15%，悬浮性能稳定，外貌精度高；能够都在低压快速提升玻璃外貌质量，抛光后易清洗，玻璃外貌无残留物。
覆铜板抛光液
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抛光速度是市售产品速度的 13 倍，抛光后外貌粗糙度 Sa 可达 2nm 以下，线路外貌无深划伤，线路边沿不塌边，抛光后外貌无残留。
光学棱镜抛光液
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本产品适用于胶正当光学棱镜的精密抛光，能够实现异质同速抛光，抛光后胶缝深度小于 10 微米。
在维持足够的抛光速率同时，能够坚持良好的外貌精度及胶缝深度，大幅优于行业要求的胶缝深度小于 30 微米。
产品优势
1. 一步抛光使外貌粗糙度Sa小于0.5nm。
2. 硅面抛光速率MRR大于3微米/小时，提升15%。
3. 碳面抛光速率MRR大于7 微米/小时，提升7%。
4. 技术及原料全部国产化，供货稳定。
行业主流
1. 使用氧化铝及二氧化硅抛光浆两步抛光。
2. 硅面抛光速率MRR大于2.6 微米/小时。
3. 碳面抛光速率MRR大于6.5 微米/小时。